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CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）是兩種常用的化學氣相沉積技術，用于制備薄膜、涂層和納米材料等。

氫氣發(fā)生器的工作原理基于鈀擴散法純化氫的原理。鈀原子的密集堆積形成了一個微小的結構，只有能夠離解的氫原子才能通過鈀管表面。其他元素的原子和分子由于直徑大于鈀原子密集堆積的間隙，無法通過。

HYDROGEN-30L/50L氫氣發(fā)生器采用固態(tài)電解質（PEM）法產(chǎn)生氫氣。它使用超純凈水作為原料，以固體聚合物為電解質，貴金屬做電極，并配備有效的除濕裝置。這樣可以降低原始濕度，使氫氣的純度保持穩(wěn)定。

由于氣相色譜專用氫氣發(fā)生器具備安全、簡便的性能特點，因此可以替代危險的高壓氫氣鋼瓶。氫氣的產(chǎn)生可以根據(jù)需要適時適量進行，從而保持氫氣儲存體積和安全性。